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聚焦离子束系统(FIB)


聚焦离子束系统(FIB):材料微纳结构的样品制备,包括:SEM在线观察下制备TEM样品、材料微观截面截取与观察、样品微观刻蚀与沉积等。
                              
           Zeiss Auriga聚焦离子束场发射扫描双束电镜
聚焦离子束场发射扫描双束电镜(FIB)是国际上纳米结构分析和材料微纳结构制备的先进设备。它配有电子束和Ga离子束,可以实现电子束与离子束的同时在线观测,具有束流稳定、分辨率高、纳米操控精确的特点,可以在纳米尺度的分辨率下对材料进行三维、高质量、高稳定性的显微形貌、晶体结构和相组织的观察与分析,及各种材料微区化学成分的定性和定量检测。

主要技术指标The main technical indicators


 SEM       分辨率Resolution 1.0nm @ 15kV       1.9nm @ 1kV

                  放大倍数Mag.12 ~ 1000,000x

                  加速电压EHT0.1 ~ 30kV

 
 FIB           分辨率Resolution:2.5nm @ 30kV
               
                  放大倍数Mag.:300×~ 500,000×
                   
                  加速电压EHT1.0 ~ 30Kv

 

配置Configuration

探测器DetectorInlens二次电子探测器

                             E-T 二次电子探测器

                             ESB背散射电子探测器

X射线能谱仪 X-ray spectrometer

分辨率Resolution127 eV @ MnKα

探测元素范围Detection range of elements: Be(4) ~ Fm(100)

EBSD探测器 EBSD Detector

空间分辨率Spatial resolution50nm

主要功能:

1.        场发射扫描电镜(SEM):各种材料形貌观察和分析,如金属、半导体、陶瓷、高分子材料、有机聚合物等

2.        X射线能谱分析仪(EDS材料微区成分分析;MnKa峰的半高宽优于127eV;CKa峰的版高宽优于56Ev;FKa峰的半高宽优于64eV;元素Be4-U92;

3.        3D背散射电子取向成像系统(EBSD):多晶材料的晶体取向和织构分析和3D重构;空间分辨率:优于50nm;探测器灵敏度: 加速电压在3KV时,束流小于50pA能采集到花样;解析速度最大可达600/s;测试能谱和EBSD 同步采集和一体化功能,选取实际样品进行三维EDS & EBSD测试;
                            


4.        聚焦离子束系统(FIB):材料微纳结构的样品制备,包括:SEM在线观察下制备TEM样品、材料微观截面截取与观察、样品微观刻蚀与沉积等。

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